산화세륨 파우더/분말(CeO2) - Cerium Oxide Polishing Powder

고품질 산화 세륨 (CeO2)은 유리, 렌즈, CRT, 보석 및 COMS 칩을 연마에 주로 사용되며 99.99%, 99.999%의 고순도 프리미엄 산화세륨 연마 분말은 우수한 현탁액과 잘 제어된 입자 크기 분포를 가지고 있어 매우 효과적인 표면 조도를 얻을수 있습니다.

HT-A20 : TFT-LCD 희석 공정에 주로 사용되며 연마제 분말은 빠른 제거 속도와 세척 용이성을 특징으로합니다.

HT-B10 : 80~200의 마모도 (K9 유리, B270 등)의 광학 유리 연마에 적합합니다. 연마 분말은 구면 렌즈 및 평면 유리 모두에 사용 가능하며 연마제 분말은 빠른 제거 속도, 탁월한 마무리 및 세척 용이성을 특징으로합니다.

HT-C14 : 용융 석영(fused quartz)와 같이 마모도가 100 미만인 광학 유리를 연마하는 데 적합합니다. 연마 분말은 구면 렌즈 및 평면 유리 모두에 사용 가능하며 연마제 분말은 빠른 제거 속도, 탁월한 마무리 및 세척 용이성을 특징으로합니다.